UV紫外線與光刻機的關系：光刻機為什么要用到紫外線

光刻機是目前半導體芯片行業的核心設備，其技術含量、價值含量極高。光刻機設備涉及到系統集成、精密光學、精密運動、精密物料傳輸、高精度微環境控制等多項先進技術是半導體行業中技術含量最高的設備。

目前，世界上最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機。

有些朋友會問，UV紫外線與光刻機到底是什么關系，在芯片制造中為何要要用到紫外線？下面由紫外線手電筒制造廠家TANK007為你介紹。

1、半導體芯片光刻工藝原理

光刻的原理是在已經切割好的晶圓（通常是多晶硅）上覆蓋一層具有高度光敏感性光刻膠，再用光線（一般是紫外光、深紫外光、極紫外光）透過掩模照射在晶圓表面，被紫外線照射到的光刻膠會發生反應。

此后用特定溶劑洗去被照射/未被照射的光刻膠，就實現了電路圖從掩模到晶片的轉移。

簡單來說，就用紫外線把多層電路圖雕刻在晶圓上，而在這過程中就必然要用到光刻機。目前滿足先進制程的7nm/5nm的光刻機采用EUV光刻工藝，而只有ASML制造的光刻機才可滿足。

2、UV紫外線與光刻機

前面我們提到，紫外線負責把線路圖雕刻到晶圓表面，而紫外線光源是由激光器負責產生，紫外線光源對芯片制程工藝具有決定性影響。

伴隨半導體工業節點的不斷提升，光刻機使用的紫外線波長從436nm、365nm的近紫外(NUV)激光提高到246nm、193nm(DUV)激光，DUV光刻機是目前大量應用的光刻機，波長是193nm，光源是ArF（氟化氬）準分子激光器。

從7nm開始Intel、三星和臺積電等晶圓代工企業開始引入EUV光刻技術，而使用極紫外光（EUV）作為光源的光刻機就是EUV光刻機。

你可以這么理解，全球最大的晶圓代工廠臺積電也只有從ASML購買EUV光刻機才能在7nm/5nm制程工藝上完成晶圓的雕刻。

要想知道EUV到底是什么東西，簡單來說EUV是UV紫外線中波段處于（10nm~100nm）的短波紫外線

本質上，EUV極紫外光跟UV紫外線和光刻機的關系是一致的。從7nm開始Intel、三星和臺積電等晶圓代工企業開始引入EUV（波長10 ~ 15 nm，通常為13.5nm）光刻技術，而使用極紫外光（EUV）作為光源的光刻機就是EUV光刻機。

你可以這么理解，如果沒有EUV光刻機晶圓代工廠就無法生產先進制程的芯片如7nm或5nm芯片。

TANK007探客手電集紫外線手電筒研發、生產、銷售為一體的手電筒廠家，專注于紫外線手電筒領域20余年，是紫外線手電筒行業領軍企業，并成為多家世界500強企業長期合作伙伴，值得信賴！

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